杭州璞璘科技（Prinano）近日通过官方微信公众号告示，与深圳力策科技配合选拔自主研发的真空气压式纳米压印决策，兑现8英寸光芯片可范畴化量产考据。
据报谈，该本领迷漫绕开传统深紫外（DUV）光刻道路，将光芯片制变老本压缩至DUV决策的相等之一，为受ASML光刻机出口末端的中国芯片产业带来了新的晨曦。
od手机app中国官网入口这次量产袭击的中枢是璞璘科技自主研发的PL-AS真空气压式晶圆级纳米压印光刻招引，配合定制化双层压印胶材料体系与中枢工艺，总共这个词坐褥经过无需使用ASML的DUV光刻机。
不同于行业主流的辊压和佳能喷墨步进式道路，该招引选拔“空气垫”式面斗争压印旨趣，能将晶圆整面压力均匀性裂缝限度在0.5%以内，残余层厚度偏差小于2nm，同期撑握硬质与柔性模板，开云2026世界杯中国官网线宽差别率可达10nm以下。
比拟辊压的线斗争形状，气压式澈底料理了压印均匀性不及的问题；而对比佳能的步进式工艺，其全域一次压印的成果更相宜光芯片的大范畴坐褥。
更关节的是，纳米压印本领兑现了跨模范微纳结构的一次成型。传统DUV光刻制造光芯移时，面临从几十纳米到数微米的复杂结构需要多谈工艺和多台招引配合，KPL下注app下载官方版而纳米压印只需将总共结构制作在归并派模板上，一次压印即可完成复刻，大幅裁减了坐褥周期并责问了良率损耗。
当今，该本领已在多个光芯片领域兑现量产考据，这些光芯片浮浅愚弄于光通讯、传感和激光雷达领域。
不外，行业关于纳米压印本领的实质价值仍存在浮浅争议。《南华早报》指出，该本领在量产范畴、良率以及非光子芯片领域的适用性尚未得回充分考据。
商议机构SemiAnalysis暗意，尽管纳米压印招引自己老本更低，但其实质老本上风取决于产能、模板坐褥、漏洞率和工艺集成水平，短期内难以替代DUV和EUV在先进逻辑芯片制造中的主导地位。璞璘科技也未显露具体的坐褥良率、出货量、客户订单及沉静考据数据，其营业化范畴仍有待进一步不雅察。
这次袭击也反应出在好意思国主导的出口管制下，中国科技企业探索各异化本融会线的举座趋势。从华为近期建议的韬（τ）定律将发展要点从晶体管微缩转向系统级数据传输、先进封装和三维集成，到各样招引初创企业在细分芯片领域寻找实用的制造替代决策，国产半导体产业正在通过多条旅途袭击本领顽固。
建筑于2017年的璞璘科技，独创东谈主葛海雄兵从纳米压印本领前驱、好意思国工程院院士周郁。2025年8月，该公司已请托中国首台半导体级纳米压印光刻招引。这次8英寸光芯片量产袭击，象征着国产纳米压印本领从践诺室走向产业化愚弄的关节一步。
PL-AS 半导体级真空气压式纳米压印机
12寸晶圆光芯片压印展示
纳米压印光刻本领量产激光雷达芯片展示王者荣耀下注平台2026最新版官方app下载